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我國(guó)建立光刻膠等技術(shù)研發(fā)基地,國(guó)產(chǎn)晶振性能提升指日可待

2020-12-05 14:05:04 

我國(guó)建立光刻膠等技術(shù)研發(fā)基地,國(guó)產(chǎn)晶振性能提升指日可待.

我國(guó)芯片,半導(dǎo)體,英晶振等行業(yè)受人掣肘的原因是什么?其根本原因就是我們的技術(shù)跟不上;不過(guò)近些年來(lái)在這方面已經(jīng)取得相當(dāng)優(yōu)越的成就,但和西方國(guó)家和科技強(qiáng)國(guó)之間還有一定差距;先不說(shuō)其他的,就制造芯片非常重要的晶圓技術(shù)和光刻膠技術(shù)等目前都是短板,都是靠引進(jìn)技術(shù),嚴(yán)重阻礙了我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,那么這就很有必要進(jìn)行自主研發(fā)了,尤其是目前這樣的局勢(shì)下,所以短短幾個(gè)月內(nèi)國(guó)內(nèi)多地建立半導(dǎo)體研發(fā)生產(chǎn)基地,上海建立專(zhuān)區(qū),專(zhuān)攻光刻膠等技術(shù).

晶體制造技術(shù),國(guó)產(chǎn)晶振性能,進(jìn)口晶體廠商

仿佛這樣的一個(gè)局面打開(kāi)之后,我國(guó)半導(dǎo)體,芯片行業(yè)發(fā)展的康莊大道就已經(jīng)近在眼前了;相信我們的祖國(guó),當(dāng)我們的國(guó)家集中力量在一點(diǎn)上之后,最后的結(jié)果會(huì)讓全世界都耳目一新的,曾經(jīng)的原子彈制造是這樣的,改革開(kāi)放是這樣的,今年2個(gè)月時(shí)間強(qiáng)壓大范圍感染的新冠肺炎疫情也是一樣,從未讓我們失望過(guò),我們也一直堅(jiān)信著.所以在不就的將來(lái),我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè),芯片制造技術(shù)等將會(huì)獲得極大的提升.

昨日上海電子化學(xué)品專(zhuān)區(qū)正式揭牌成立,據(jù)介紹上海化工區(qū)電子化學(xué)品專(zhuān)區(qū)將重點(diǎn)發(fā)展以光刻膠以及配套材料,電子特氣和濕電子化學(xué)品三大類(lèi)產(chǎn)品,構(gòu)建以上海化工區(qū)為主體,金山,奉賢分區(qū)協(xié)同發(fā)展的一體兩翼格局,形成上海化工區(qū)側(cè)重制造和研發(fā),”兩翼側(cè)重倉(cāng)儲(chǔ),非涉危制造的一體化產(chǎn)業(yè)布局.上海化工區(qū)力爭(zhēng)在專(zhuān)區(qū)建設(shè)中率先實(shí)現(xiàn)三個(gè)集聚”,即電子化學(xué)品企業(yè)集聚,技術(shù)集聚,人才集聚;著力打造三個(gè)基地”,即電子化學(xué)品研發(fā)試驗(yàn)基地,生產(chǎn)基地,物流存儲(chǔ)基地.

上海電子化工學(xué)品專(zhuān)區(qū)主要目標(biāo)是,2025,力爭(zhēng)專(zhuān)區(qū)各類(lèi)產(chǎn)品為上海集成電路產(chǎn)業(yè)的電子化學(xué)品品種配套率達(dá)到70%,為全國(guó)的配套率達(dá)到65%,成為國(guó)內(nèi)標(biāo)桿性的電子化學(xué)品基地.2030,實(shí)現(xiàn)本土化制造與自主創(chuàng)新并重,為上海市集成電路的配套率超過(guò)90%,成為具有國(guó)際影響力的電子化學(xué)品基地.

是的,電子化學(xué)品是高端制造業(yè)的基礎(chǔ),更是集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要支撐,全球電子信息產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)增長(zhǎng),為電子化學(xué)品產(chǎn)業(yè)發(fā)展帶來(lái)了新機(jī)遇.再加上如今受到來(lái)自美國(guó)的干擾,我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展腳步將嚴(yán)重受到影響.

這是大勢(shì),既然國(guó)內(nèi)已經(jīng)在這些方面加大力度,那么整個(gè)市場(chǎng)的提升僅僅只是時(shí)間的問(wèn)題;目前我國(guó)的芯片處于進(jìn)口為主,自主生產(chǎn)為輔的狀態(tài),華為有這方面的技術(shù),但也只是能夠自給自足,無(wú)法大面積供應(yīng)國(guó)內(nèi)市場(chǎng),這也是美國(guó)會(huì)想方設(shè)法對(duì)華為下手的原因所在.

晶體制造技術(shù),國(guó)產(chǎn)晶振性能,進(jìn)口晶體廠商

國(guó)產(chǎn)晶振行業(yè)也是一樣的,由于晶圓等技術(shù)的落后,國(guó)產(chǎn)晶振的性能終究是較之進(jìn)口晶振的性能差上一些,很多用戶(hù)還是鐘愛(ài)進(jìn)口產(chǎn)品,雖然這次疫情和各種事件加速了國(guó)產(chǎn)的替代進(jìn)程,但這只是由于外在因素,主要的還是看生產(chǎn)技術(shù),生產(chǎn)技術(shù)上去了,晶振的性能也就上去了.

并且由于技術(shù)限制,國(guó)內(nèi)很多廠家還沒(méi)發(fā)生產(chǎn)像TCXO晶振這種需要光刻技術(shù)的產(chǎn)品,以及一些特殊規(guī)格的32.768K時(shí)鐘晶振,以及熱敏晶振生產(chǎn)線的缺乏,陶瓷面封裝晶振生產(chǎn)技術(shù)的欠缺都是有待去提升的地方.

長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,不管是國(guó)內(nèi)的其他半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)研發(fā)基地亦或是上海電子化學(xué)專(zhuān)區(qū)的建立,對(duì)于國(guó)內(nèi)電子行業(yè)(尤其是集成電路行業(yè)和石英晶振,芯片等領(lǐng)域)的發(fā)展意義非凡.

我國(guó)建立光刻膠等技術(shù)研發(fā)基地,國(guó)產(chǎn)晶振性能提升指日可待.

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